
SPH-200E — 63–200 µm
Kontrolowany gatunek serii E 63–200 µm o skoncentrowanym drobnym i średnim uziarnieniu do powłok i kompozytów.
Kontrolowany zakres 63–200 µm i gęstość nasypowa 0,35–0,44 g/cm³ stanowią punkt wyjścia do prób z ograniczonym udziałem najdrobniejszych cząstek.


