
SPH-200E — 63–200 µm
Kontrolowany gatunek serii E 63–200 µm o skoncentrowanym drobnym i średnim uziarnieniu do powłok i kompozytów.
Kontrolowana frakcja 63–200 µm i gęstość nasypowa 0,35–0,44 g/cm³ odpowiadają próbom powłok wymagających ograniczenia bardzo drobnych cząstek.


